酸化ビスマス (Bi2O3) ベースのガラスは、幅広い用途を持つ高性能材料です。さまざまな研究や情報源によると、主な用途は次のとおりです。
 
 

1. 光電子デバイスと光ファイバー伝送

ビスマス酸化物ベースのガラスは、その高い屈折率、赤外線透過性、非線形光学特性により、オプトエレクトロニクスデバイスや光ファイバー伝送に大きな潜在的用途を持っています。これらの材料では、ビスマス酸化物が添加剤として大量に使用されています。たとえば、Bi2O3-B2O3-Si2O3ガラスシステムは、150fs未満の超高速応答を示し、光スイッチングや広帯域増幅に広く適用できます。さらに、63.3Bi2O3-32.6B2O3-41Si2O3-0.24CeO2などのセシウムをドープしたビスマスベースのガラスは、その含有量が63.3%に達し、重量でガラスの92%を占め、さらに優れた性能を発揮します。
 
 

2. 低温溶融とフォトニクスデバイスへの応用

ビスマス酸化物ベースのガラスは、高い線形屈折率、低いガラス転移温度、および高い三次非線形光学感受率を示し、低温溶融およびフォトニクスデバイスの用途に有望な材料となっています。
 
 

3. 電子セラミック粉末材料

酸化ビスマスは電子セラミック粉末材料の重要な添加剤として機能し、主に酸化亜鉛バリスタ、セラミックコンデンサ、フェライト磁性材料などに使用されています。電子セラミックの開発では、米国が世界をリードしており、日本は大規模生産と高度な技術により、60%のシェアで世界のセラミック市場を支配しています。
 
 
要約すると、ビスマス酸化物ベースのガラスは、オプトエレクトロニクス、電子セラミックス、低温溶融、フォトニクスデバイスなどの分野で幅広い応用の可能性を秘めています。